非那西丁的分子印迹-化学发光分析法研究

《化学学报》 张红鸽[1];吕九如[1];何云华[1];杜建修[1]
摘要:
本研究发现高锰酸钾可以氧化非那西丁产生弱的化学发光,而甲醛对这一化学发光反应有较强的增敏作用,据此建立了高锰酸钾-非那西丁-甲醛化学发光体系.以甲基丙烯酸为功能单体,乙二醇二乙酸甲酯为交联剂,合成了非那西丁的分子印迹聚合物.以此分子印迹聚合物为分子识别物质,利用高锰酸钾-非那西丁-甲醛化学发光体系,结合流动注射分析技术,建立了测定非那西丁高选择性的分子印迹-化学发光分析方法.方法的线性范围为5.0×10-7~5.0×10-5g/mE,相关系数为r=0.990,检出限为2×10-7g/mL.对1.0×10-6g/mL非那西丁溶液进行11次平行测定,相对标准偏差为2.8%.此法已用于复方制剂去痛片及尿液中非那西丁的测定,结果令人满意.
非那西丁 , 化学发光体系 , 醛化 , 去痛片 , 复方制剂 , 尿液 , 甲醛 , 乙酸甲酯 , 高选择性 , 甲基丙烯酸
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