高岭石-醋酸钾插层复合物的制备与表征

《哈尔滨工业大学学报》 夏华[1];王方正[2];李学强[1]
摘要:
用XRD、FT—IR和TG—DSC等方法研究了高岭石-醋酸钾插层复合物的形成过程,XRD谱显示高岭石的层间距由0.72nm增大到1.42nm。这表明醋酸钾已经成功地插入到高岭石层间,FT—IR谱表明醋酸钾可能与高岭石的内表面羟基形成了氢键.TG—DSC谱表明,高岭石-醋酸钾插层复合物很稳定,直到大约400℃时,醋酸钾才从高岭石层间脱嵌出来,研究结果还证明水也和醋酸钾一起插入到了高岭石层间。
高岭石 , 醋酸钾 , 插入 , 插层复合物
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