摘要:
研究了双嘧达莫在铁氰化钾-鲁米诺化学发光反应体系中的后化学发光反应，并在研究其反应的动力学性质、化学发光光谱、荧光光谱以及一些相关问题的基础上，探讨了反应机理；合成了双嘧达莫的分子印迹聚合物，以此聚合物为分子识别物质，利用铁氰化钾-鲁米诺-双嘧达莫后化学发光体系，建立了测定双嘧达莫的高选择性分子印迹-后化学发光分析方法．所建方法的线性范围为1．0×10^-8-1．0×10^-6g／mL（r=0．9992），检出限为3×10^-9g／mL，相对标准偏差为2．7％（1．0×10^-7g／mL双嘧达莫，n=11）．
